Effizientere und nachhaltigere Produktion mikroelektronischer Bauteile durch optimierte E-Beam Lithografie

Das Fraunhofer-Prepare-Projekt IndiNaPoly treibt die Weiterentwicklung der E-Beam Lithografie voran, um die kosteneffiziente und energieoptimierte Herstellung mikroelektronischer Bauteile in mittleren Stückzahlen (1.000–100.000 pro Jahr) zu ermöglichen. Im Fokus steht die Entwicklung neuartiger Resiste mit maßgeschneiderten Polymeren, die Auflösungen unter 20 nm bei gleichzeitig erhöhter Sensitivität bieten. Durch individuell angepasste Prozessschritte, kürzere Zykluszeiten und den Einsatz nachhaltiger Materialien wird nicht nur die Produktionsqualität gesteigert, sondern auch der CO₂-Fußabdruck reduziert. Hersteller und Zulieferer der Halbleiterindustrie profitieren von einer innovativen Technologie, die Effizienz, Zuverlässigkeit und Nachhaltigkeit vereint – getragen von der engen Zusammenarbeit der Fraunhofer-Institute LBF und ENAS.